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等離子體表征分析儀

產(chǎn)品概述: 質(zhì)譜儀

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EQP等離子體質(zhì)量和能量分析儀

ESPion?高級朗繆爾探針

?

Hiden ?EQP臺結(jié)合質(zhì)量和能量分析的儀器,。用于分析

ESPion ?Langmuir ?靜電等離子體探針適用于RFDC等離子

等離子體中正、負(fù)離子,、中性粒子以及自由基的種類和

體反應(yīng)器,,自動(dòng)測量、在線顯示和存儲測量參數(shù),。ESPion

能量分布。

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在被動(dòng)射頻補(bǔ)償方面,在所有商業(yè)化探針

●?刻蝕/沉積過程研究

●?磁控濺射沉積過程分析

ESPion具有的屏蔽阻抗(4.25Mohm ?at ?13.56 ?MHz

cf.100kohm),,也是速的脈沖等離子體探針。具有自

●?離子注入/激光燒蝕

●?殘余氣體分析/泄漏檢測

清洗循環(huán)功能,,防止探針尖端污染,。

●?脈沖等離子體研究

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●?蝕刻/沉積/清潔等離子體

●?離子密度?(Ni & Gi)

●?粒子通量、方向,、能量和原子狀態(tài)

●?質(zhì)量數(shù):1300,、510,、10002500amu

●?脈沖等離子體操作

●?等離子體電勢

●?1000eV能量選配,;懸浮電位可選至10keV

●?電子密度(Ne)

●?Debye長度

●?電子附著分析選配

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●?電子溫度(Te & EEDF)

●?懸浮電位

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PSM等離子體質(zhì)量和能量分析儀

HPR 60分子束取樣質(zhì)譜儀

PSM臺差式泵質(zhì)譜儀(In-Line Plasma Analysers for

HPR ?60適用于常壓下的高速度,、無碰撞的分子束分析,

Neutrals, Radicals and Ion Analysis),,分析等離子過程

即常壓下的等離子體過程分析/表征

中的二次離子和中性粒子,。

?

●?反應(yīng)動(dòng)力學(xué)

●?離子束蝕刻

●?等離子體沉積研究

●?常壓等離子體診斷

●?離子植入/激光燒蝕

●?殘余氣體分析

●?燃燒研究火焰離子化分析

●?靈敏度高/極穩(wěn)定的3級過濾四極桿,質(zhì)量數(shù)范圍至2500amu

●?催化研究

●?脈沖離子計(jì)數(shù)檢測器,,7個(gè)數(shù)量級的動(dòng)態(tài)范圍

●?CVD/MOCVD–金剛石生長研究

●?能量分析選件,,標(biāo)準(zhǔn)±100eV1000eV可選?

●?大氣輝光放電分析

●?具有可調(diào)諧的離子源,用于表觀勢能譜

●?集束分析

●?信號選通分辨率1μs,,

?

?

●?閃脫附研究

●?標(biāo)準(zhǔn)分析中性粒子,、自由基,正,,負(fù)離子分析

●?低,、高能量分析選項(xiàng),分析中性粒子,、離子,、自由基

●?Mu-Metal, Radio-metal屏蔽可選,高壓操作可選

●?20,、100,、1000 mbar取樣壓力選擇