歡迎來到北京華儀高科科技有限公司企業(yè)官網(wǎng)
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3F/PIC快速反應(yīng)質(zhì)譜儀 |
3F/IDP?離子脫附分析質(zhì)譜儀 |
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PIC是帶脈沖離子計(jì)數(shù)檢測器的3F質(zhì)譜儀，具有高靈敏度， |
Hiden ?IDP是三級過濾質(zhì)譜/能量分析儀，用于研究ESD、PSD |
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快速測量的特點(diǎn)。 |
或UHV-TPD中釋放的低能量粒子。是電子、光子激發(fā)脫附 |
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●?UHV TPD |
研究中，進(jìn)行離子、中性粒子、自由基的質(zhì)量、能量 |
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分析的質(zhì)譜。 |
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●?表面科學(xué)，單晶格研究 |
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●?釋出組分的快速質(zhì)量、能量監(jiān)測 |
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●?分子束研究 |
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●?光致解吸研究 |
●?選通輸入分析，進(jìn)行瞬時/TOF?研究 |
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特點(diǎn)： |
●?用表觀勢能譜，分析母體和自由基 |
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●?質(zhì)量數(shù)：1～2500amu |
●?ESD和PAS閾值,離子能量分布 |
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●?脈沖離子計(jì)數(shù)器 |
●?正、負(fù)離子譜，鍵角信息 |
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●?增強(qiáng)的抗污染能力 |
●?泄漏探測/?實(shí)際泄漏分析/脫附研究 |
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●?測量速度：500點(diǎn)/秒 |
●?4透鏡離子光學(xué)系統(tǒng)/電子轟擊離子源 |
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●?動態(tài)范圍：10-7 |
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●?信號選通1μs分辨率 |
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3F/EPIC質(zhì)譜儀 |
IMP刻蝕終點(diǎn)檢測儀 |
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EPIC是帶脈沖離子計(jì)數(shù)、四極桿偏壓（Pulse Ion Counting and |
IMP是自帶差式泵，簡潔的二次離子質(zhì)譜儀，適于分析離 |
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Pole Bias Control）控制的3F質(zhì)譜儀，用于高精密科學(xué)分析、 |
子刻蝕過程中的二次離子和中子。是專業(yè)檢測刻蝕終點(diǎn)的 |
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過程研究以及中性粒子、自由基、離子的UHV分析。 |
儀器，用于離子刻蝕控制以及優(yōu)化工藝質(zhì)量。 |
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●?中性粒子、自由基，正、負(fù)離子 |
●?終點(diǎn)分析 |
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●?電子附著研究 |
●?靶污染檢測 |
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●?表面科學(xué) |
●?質(zhì)量控制/SPC |
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●?分子束研究 |
●?殘余氣體分析 |
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●?UHV TPD |
特點(diǎn)： |
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特點(diǎn)： |
●?高靈敏度的?SIMS/MS，帶脈沖離子計(jì)數(shù)檢測器 |
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●?質(zhì)量數(shù)范圍可選至2500amu |
●?三級過四極質(zhì)譜儀，標(biāo)準(zhǔn)配置為300amu |
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●?離子能量分布掃描±100eV（1000eV可選） |
●?離子光學(xué)器件，帶能量分析器和完整的離子源 |
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●?當(dāng)分析能量（或質(zhì)量）分布變化與時間的關(guān)系，或進(jìn)行 |
●?真空規(guī)提供過壓保護(hù) |
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TOF研究時，信號選通分辨率為1μs |
●?穩(wěn)定性好：超過24h，峰高變化小于±0.5% |
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●?可升級至等離子體分析或SIMS分析儀 |
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