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等離子體表征分析儀

產(chǎn)品概述: 質(zhì)譜儀

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EQP等離子體質(zhì)量和能量分析儀

ESPion?高級朗繆爾探針

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Hiden ?EQP臺結(jié)合質(zhì)量和能量分析的儀器,。用于分析

ESPion ?Langmuir ?靜電等離子體探針適用于RFDC等離子

等離子體中正、負(fù)離子,、中性粒子以及自由基的種類和

體反應(yīng)器,,自動測量,、在線顯示和存儲測量參數(shù)。ESPion

能量分布,。

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在被動射頻補(bǔ)償方面,,在所有商業(yè)化探針

●?刻蝕/沉積過程研究

●?磁控濺射沉積過程分析

ESPion具有的屏蔽阻抗(4.25Mohm ?at ?13.56 ?MHz

cf.100kohm),也是速的脈沖等離子體探針,。具有自

●?離子注入/激光燒蝕

●?殘余氣體分析/泄漏檢測

清洗循環(huán)功能,,防止探針尖端污染。

●?脈沖等離子體研究

?

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●?蝕刻/沉積/清潔等離子體

●?離子密度?(Ni & Gi)

●?粒子通量,、方向,、能量和原子狀態(tài)

●?質(zhì)量數(shù):1300510,、1000,、2500amu

●?脈沖等離子體操作

●?等離子體電勢

●?1000eV能量選配,;懸浮電位可選至10keV

●?電子密度(Ne)

●?Debye長度

●?電子附著分析選配

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●?電子溫度(Te & EEDF)

●?懸浮電位

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PSM等離子體質(zhì)量和能量分析儀

HPR 60分子束取樣質(zhì)譜儀

PSM臺差式泵質(zhì)譜儀(In-Line Plasma Analysers for

HPR ?60適用于常壓下的高速度、無碰撞的分子束分析,,

Neutrals, Radicals and Ion Analysis),,分析等離子過程

即常壓下的等離子體過程分析/表征

中的二次離子和中性粒子。

?

●?反應(yīng)動力學(xué)

●?離子束蝕刻

●?等離子體沉積研究

●?常壓等離子體診斷

●?離子植入/激光燒蝕

●?殘余氣體分析

●?燃燒研究火焰離子化分析

●?靈敏度高/極穩(wěn)定的3級過濾四極桿,,質(zhì)量數(shù)范圍至2500amu

●?催化研究

●?脈沖離子計(jì)數(shù)檢測器,,7個(gè)數(shù)量級的動態(tài)范圍

●?CVD/MOCVD–金剛石生長研究

●?能量分析選件,標(biāo)準(zhǔn)±100eV1000eV可選?

●?大氣輝光放電分析

●?具有可調(diào)諧的離子源,,用于表觀勢能譜

●?集束分析

●?信號選通分辨率1μs,,

?

?

●?閃脫附研究

●?標(biāo)準(zhǔn)分析中性粒子、自由基,,正,,負(fù)離子分析

●?低、高能量分析選項(xiàng),,分析中性粒子,、離子、自由基

●?Mu-Metal, Radio-metal屏蔽可選,,高壓操作可選

●?20,、1001000 mbar取樣壓力選擇