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3F/PIC快速反應質譜儀 |
3F/IDP?離子脫附分析質譜儀 |
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PIC是帶脈沖離子計數檢測器的3F質譜儀,，具有高靈敏度， |
Hiden ?IDP是三級過濾質譜/能量分析儀,，用于研究ESD,、PSD |
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快速測量的特點,。 |
或UHV-TPD中釋放的低能量粒子,。是電子,、光子激發(fā)脫附 |
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●?UHV TPD |
研究中,，進行離子,、中性粒子,、自由基的質量、能量 |
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分析的質譜,。 |
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●?表面科學,，單晶格研究 |
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●?釋出組分的快速質量,、能量監(jiān)測 |
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●?分子束研究 |
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●?光致解吸研究 |
●?選通輸入分析，進行瞬時/TOF?研究 |
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特點： |
●?用表觀勢能譜,，分析母體和自由基 |
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●?質量數：1～2500amu |
●?ESD和PAS閾值,離子能量分布 |
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●?脈沖離子計數器 |
●?正,、負離子譜，鍵角信息 |
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●?增強的抗污染能力 |
●?泄漏探測/?實際泄漏分析/脫附研究 |
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●?測量速度：500點/秒 |
●?4透鏡離子光學系統(tǒng)/電子轟擊離子源 |
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●?動態(tài)范圍：10-7 |
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●?信號選通1μs分辨率 |
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3F/EPIC質譜儀 |
IMP刻蝕終點檢測儀 |
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EPIC是帶脈沖離子計數,、四極桿偏壓（Pulse Ion Counting and |
IMP是自帶差式泵,，簡潔的二次離子質譜儀，適于分析離 |
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Pole Bias Control）控制的3F質譜儀,，用于高精密科學分析,、 |
子刻蝕過程中的二次離子和中子。是專業(yè)檢測刻蝕終點的 |
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過程研究以及中性粒子,、自由基,、離子的UHV分析。 |
儀器,，用于離子刻蝕控制以及優(yōu)化工藝質量,。 |
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●?中性粒子、自由基,，正,、負離子 |
●?終點分析 |
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●?電子附著研究 |
●?靶污染檢測 |
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●?表面科學 |
●?質量控制/SPC |
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●?分子束研究 |
●?殘余氣體分析 |
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●?UHV TPD |
特點： |
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特點： |
●?高靈敏度的?SIMS/MS，帶脈沖離子計數檢測器 |
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●?質量數范圍可選至2500amu |
●?三級過四極質譜儀,，標準配置為300amu |
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●?離子能量分布掃描±100eV（1000eV可選） |
●?離子光學器件,，帶能量分析器和完整的離子源 |
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●?當分析能量（或質量）分布變化與時間的關系，或進行 |
●?真空規(guī)提供過壓保護 |
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TOF研究時,，信號選通分辨率為1μs |
●?穩(wěn)定性好：超過24h,，峰高變化小于±0.5% |
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●?可升級至等離子體分析或SIMS分析儀 |
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